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韩国首尔2021年10月12日 / / -- 今日,三星宣布已开始量产基于极紫外光(EUV)技术的14纳米(nm)DRAM。继去年3月三星推出首款EUV DRAM后,又将EUV层数增加至5层,为...
近日,佳能公司推出了一种全新的纳米压印技术,该技术有望对当前的EUV光刻技术形成挑战。这一技术的推出,不仅可能对半导体制造行业产生深远影响,也为台积电、联电、光罩等半导体相关企业带来了新的机遇。
台积电近日宣布,在其美国厂导入首台EUV(极紫外)供应商之后,将再招2000名设备安装人员。这一举措预示着台积电在美国市场的扩张计划又向前迈出了重要一步。
该公司在第一季度新增了16亿欧元的EUV光刻机订单,这是半导体行业的一项重大突破
在近期于美国檀香山举行的2022年度VLSI 国际研讨会上,英特尔公布Intel 4制程的细节。英特尔表示,相较Intel 7,Intel 4 在相同功耗前提下提升20% 以上的性能,高性能元件库(library cell)密度也是Intel 4的2倍,同时还达成了两项关键目标:满足开发中产品需求,包括PC 客户端的Meteor Lake,并推动先进制程技术和模组,带领英特尔2025 年重回制程领先地位。
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